Разработан новый метод нанолитографии - с использованием атомно-силовой микроскопии

Специалисты корпорации IBM разработали новый способ литографии поверхности, использующий для нанесения нужного рисунка на подложку атомно-силовую микроскопию (atomic force microscopy, AFM). Метод является модернизацией перьевой нанолитографии (dip-pen nanolithography), использующейся для "рисования" рельефа поверхности. Усовершенствованный кантилевер микроскопа, представляющий собой теперь массив игл, способен формировать нужный рельеф на порядок точнее и быстрее.  Об этом сообщает пресс-релиз компании.

Ранее уже были попытки использовать AFM для нанесения на подложку специальных чернильных контуров нанометрового размера, но возникала проблема контроля количества осаждённых чернил, пишет Компьюлента. Исследователи из IBM решили эту проблему. На кантилевер в процессе работы подаётся сильное напряжение, и, меняя его, определяется количество наносимого вещества. Скорость формирования топографии поверхности в 1000 раз превосходит ранее существовавшие методы.

Кроме нанолитографии, новому открытию пророчат достаточно широкую область применения в медицине. При помощи AFM можно быстро и качественно проводить дактилоскопирование, анализы крови и ДНК.

Образование в области нанотехнологий и информатики можно получить

•  в Московском физико-техническом государственном университете