Актуально
Разработан метод двухфотонной нанолитографии, позволяющий создавать наноструктуры любой формы11 апреля 2006, 15:10
|
Группа исследователей под руководством доктора Джона Роджерса (John Rogers) из Иллинойского университета (University of Illinois) разработали простой метод двухфотонной субволновой нанолитографии, позволяющий создавать трехмерные наноструктуры на сравнительно большой по микромасштабам площади - до кв. м. Предложенная ими технология позволяет создавать наноструктуры практически любой заданной формы с хорошей производительностью.
Согласно разработанной учеными технологии, чувствительный фотополимер выдерживается вблизи от поверхности фазовой маски, поэтому отпадает необходимость распределять и фокусировать лучи для получения 3D-наносистемы, что позволяет иметь дело сразу со многими шаблонами, пишут C-News.
В качестве источника фотонов исследователи использовали атомы титана в сапфировом лазере с частотой 1 кГц и длиной волны 810 нм. С его помощью генерировалась маска диаметром 600 мкм с частотой развертки 120 импульсов в с, энергией порядка 1 мкДж. Пиковая интенсивность лазера ~0,7 ТВт*см-2 — это достаточная для двухфотонной литографии интенсивность луча. Пропуская импульсы через фазовую маску, находящуюся над фотополимером, ученые получили 3D-распределение интенсивности луча по объему фотополимера, хотя фазовая маска была двумерной геометрии.
В демонстрационных опытах путем изменения времени экспозиции исследователи получили разные наноструктуры. Так, для выдержки 120 и 240 с были получены разные концентрации фотокатализатора в полимере. Затем полимер при определенной температуре (65 C) помещают в специальный растворитель, что приводит к удалению остатков полимера, при этом на поверхности остается матрица необходимых наноструктур.
Разработанная методика является серьезным прорывом, который, несомненно, будет востребован самыми различными областями науки, техники и промышленности в самое ближайшее время.
